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• XPS 분석 문의는 메일(p20113@gknu.ac.kr)로 보내주세요 • 예약 당일 분석 불가(예약일 하루 전 시료 전달 부탁드립니다) • 시료는 완전 건조하여 Outgassing이 없어야 함 • 파우더 시료 Depth Profile 불가 <박막시료 준비> 1. XPS, REELS, ISS : 10mm*10mm < 파우더시료 준비> 1. 약 5mm 사이즈의 spatula로 2~3번 떠서 바이알에 준비해주세요 2. 시료명은 가급적 숫자로 표기해주세요 3. 시료케이스에 의뢰자 정보를 반드시 기입해주세요
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본 장비는 XPS(X-ray Photoelectron Spectrometer), UPS(Ultraviolet photoelectron spectrometer), REFLECTED ENERGY ELECTRON LOSS SPECTROSCOPY (REELS) 및 ION SCATTERING SPECTROSCOPY (ISS)가 가능한 시스템으로 구성되어 있다.
• XPS: 초고진공 분위기에서 표면에 Monochromatic Al X-ray를 조사한 후, 원자 core level에서 방출하는 광전자의 운동에너지를 측정하여 시료 표면 원소 조성 및 화학적인 결합 상태의 정보를 얻는다.
• UPS: Ultraviolet lamp에서 방출되는 21.2eV(HeI)를 시료 표면에 조사한 후, 분자의 가전자대 영역의 광전자를 측정하여 시료의 페르미준위, 진공준위 및 일함수를 얻는다.
• REELS: 전자빔(약1000eV)을 표면원자에 조사(충돌)시키고, 이때 에너지손실된 비탄성산란 전자의 Kinetic energy를 측정하여 Band gab을 얻는다.
• ISS: 헬륨이온빔을 시료표면에 조사하여 가장 바깥쪽 원자층과 충돌하였을 때 원자질량에 따라 헬륨이온의 에너지 손실을 측정하여 표면원자의 조성정보를 얻는다.
1. Microfocussed Monochromated X-ray source (Al anode)
• UHV Analysis chamber (5×10-9mbar)
2. Mono-atomic and cluster ion source (Ar)
• Monoatomic Mode (0.5 to 4 keV), Cluster Mode (2 to 8 keV)
3. Electron analyser : Spherical sector analyser, 128-channel detector
• Pass Energy : 1 – 400 eV
• Max. Sensitivity at 1 eV FWHM on Ag 3d5, at 400 μm : 6,500,000 cps
4. UV PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY (UPS)
• Helium I (21.2eV)
• Sensitivity in the Ag at 120 meV : 2,000,000 CPS
5. REFLECTED ENERGY ELECTRON LOSS SPECTROSCOPY (REELS)
• Electron beam energy : 0 – 1,000 eV (REELS mode)
• Sensitivity in the Ag at 0.5 eV FWHM : 1,000,000 CPS
6. ION SCATTERING SPECTROSCOPY (ISS)
• He source
• Sensitivity in the Au at 14 eV FWHM : 25,000 cps/nA
7. Sample holder
• Maximum specimen dimensions : 60 x 60 x 20 mm
• Sample Tilt : +, - 50 degree
• Vacuum Transfer Vessel : Maximum specimen thickness(9 mm)
• 화합물 표면의 정성 및 정량분석
• 화학적 상태 규명
• Line scan, Mapping
• Depth profile, ARXPS
• UPS: Work function, Cut-off level. Fermi level
• REELS: Band gap
• ISS: semiconductor thin films, surface contamination
| 구분 | 항목 | 단위 | 외부 | 교내 | 기타 | 비고 |
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분석의뢰 |
surface analysis(기본 1시간/원소5개) | 시료 | 100,000 | 60,000 | 60,000 |
시료 당 1point 분석 분석 시 원소 C 기본 포함 단위시간 미만 사용 시 단위시간으로 적용 협약대(대구경북 기기센터 협의회): 교내의뢰 금액 적용 |
| surface analysis 원소추가 | 원소 | 20,000 | 10,000 | 10,000 | ||
| surface analysis 추가시간 | 시간 | 50,000 | 25,000 | 25,000 | ||
| Depth profile(기본2시간/원소3개) | 시료 | 200,000 | 100,000 | 100,000 | ||
| Depth profile 원소추가 | 원소 | 20,000 | 10,000 | 10,000 | ||
| Depth profile 추가시간 | 시간 | 50,000 | 25,000 | 25,000 | ||
| UPS(REELS, ISS) 기본 1시간 | 시료 | 150,000 | 100,000 | 100,000 | ||
| UPS(REELS, ISS) 추가시간 | 시간 | 50,000 | 25,000 | 25,000 | ||
| Ar Etching | 회 | 20,000 | 15,000 | 15,000 |